集成电路制造工艺与模拟-T 工业技术-北京天启书苑文化传媒有限公司

集成电路制造工艺与模拟

ISBN：9787122465375

价格：89

副题名：

分辑号：

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主要著作者：孙晓东, 律博, 宋文斌编著

发行地：北京

出版社：化学工业出版社

出版日期：2025.2

页码：185页

开本：26cm

丛书项：“集成电路设计与集成系统”丛书

一般性附注：

读者对象：本书可供集成电路、半导体行业从事芯片制造与加工的工程技术人员以及高校微电子、集成电路专业师生阅读

主题词：集成电路工艺

中图法分类：TN405

装帧：

版次：

图表：彩图

语种：chi

本书涵盖集成电路制造工艺及其模拟仿真知识, 首先介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及其模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工; 其次具体讲解氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论, 对光刻、氧化、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真, 对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟进行介绍; 最后还介绍了基本CMOS工艺流程及其工艺模拟。本书理论和实践相结合, 不仅讲解了集成电路制造工艺及其理论知识, 还通过工艺模拟软件及虚拟操作模拟, 使读者能够在

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